TRUMPF加熱電源1599111

胤旭機電 >> TRUMPF加熱電源1599111 : TRUMPF加熱電源1599111 TRUMPF中頻等離子體電源主要用于雙陰極系統，例如用于雙磁控濺射。得益于高輸出功率和流程穩定性，中頻電源不僅適合具有高沉積速率的大面積建筑玻璃鍍膜，而

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TRUMPF加熱電源1599111

　　TRUMPF加熱電源1599111

　　TRUMPF中頻等離子體電源主要用于雙陰極系統，例如用于雙磁控濺射。得益于高輸出功率和流程穩定性，中頻電源不僅適合具有高沉積速率的大面積建筑玻璃鍍膜，而且適用于在半導體或太陽能電池上涂敷超薄型均勻涂層。憑借出色的精確度和生產效率，該款中頻工藝電源成為眾多等離子體激發應用的理想解決方案。

　　TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列工藝電源尤其適合高要求等離子體工藝，如反應濺射、PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學氣相沉積)。在半導體與太陽能電池制造、建筑玻璃鍍膜以及耐磨裝飾涂層涂覆中，該發生器憑借其靈活可塑的輸出信號和精湛的電弧管理提供出色結果。

　　使用 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列中頻電源可始終完全掌控工藝流程：即便在要求嚴苛的大面積鍍膜應用中，仍能比較終獲得出色的涂層質量和極高的生產效率。與此同時，憑借超過 90 % 的頂尖能量轉化率，此款新一代供電系統確保極高的運行經濟性。

　　TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列的進程供電是專門針對借助 PVD(物理氣相沉積)、PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)和反應式濺射進程的等離子輔助涂層而研發的。憑借其靈活可塑的輸出信號和精湛的電弧管理使比較新款發生器的雙極脈沖發射器具有廣泛用途。無論是半導體和太陽能電池制造還是建筑玻璃涂層，任何情況下都可期待高效涂層質量和涂覆率。

　　全數字化電弧管理確保出色的涂層質量和生產效率。

　　通過輸出信號變化輕松適配不同工藝。

　　直流電、被動脈沖式直流電和雙極脈沖：得益于多種調整選項可節約成本。

　　無需外部部件，因此空間需求極低。

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